科技產業
科技產業的製造和維護過程對清潔度有著極高的要求。從半導體晶圓到精密電子元件，微小的污染物都可能導致產品失效或良率下降。隨著科技產品不斷微型化和高集成度發展，清潔技術也需要相應提升。我們的科技產業解決方案專注於提供超高純度清潔技術，滿足最嚴格的產業標準，確保客戶產品品質和生產效率。
產業挑戰
精密清潔
- •微米級甚至奈米級污染物的有效去除
- •對敏感電子元件和精密表面的無損清潔
- •複雜微結構和高深寬比結構的清潔難度
- •靜電問題控制和防止再污染
純度要求
- •半導體和光電產業對清潔度的極高標準
- •清潔過程中的交叉污染風險
- •清潔介質本身的純度控制
- •潔淨室環境下的清潔操作要求
生產效率
- •高價值生產線的停機成本極高
- •需要快速且高效的清潔流程
- •清潔過程的自動化和標準化需求
- •清潔效果的一致性和可重複性要求
解決方案
超純水高壓清潔系統
專為科技產業設計的超純水高壓清潔系統，採用18.2MΩ·cm超純水和精確控制的壓力，能夠有效去除微米級污染物而不損傷敏感元件。系統在潔淨室環境下運行，確保最高清潔標準。
壓力範圍
- •50-1000 bar
特點
- •超純水處理系統，確保清潔介質純度
- •精確壓力控制，適應不同清潔需求
- •專業噴頭設計，可處理微小結構
- •閉環清潔系統，防止交叉污染
- •實時監測和數據記錄功能
- •符合半導體產業標準的材料和工藝
- •模塊化設計，可整合至現有生產線
應用
半導體晶圓和光罩清潔精密光學元件處理微機電系統(MEMS)製造印刷電路板組裝前清潔精密儀器維護
服務企業
矽品
倉和
世禾
台光
漢泰
榮衆
日月光
